镍蚀刻剂TFB是适用于蒸发镍薄膜上的标准镍蚀刻剂。这种蚀刻剂与阳性和阴性光刻胶都有良好的匹配性。它用于氧化铝基板上,是金、镍、镍铬或铬电阻的理想蚀刻剂。
镍蚀刻剂TFB是高纯硝酸盐基蚀刻剂用于蚀刻蒸发或电镀镍膜,镍蚀刻剂与阴、阳性光刻胶材料都具有良好匹配性。镍蚀剂用于蚀刻金、镍、镍铬膜以制作电阻板。
特点:
·廉价经济
·与阳性、阴性光刻胶都相匹配
·线条轮廓清晰
·蚀刻速率均匀
性质:
| 蚀刻剂 | TFB |
| 操作温度 | 25℃ |
| 蚀刻速率 | 30 Å /秒 |
| 镍沉积法 | 蒸发/阴极溅镀 |
| 蚀刻能力 | 270g/加仑 |
| 典型膜厚 | 1500 Å /5-50微英寸 |
| 罐 | 玻璃/塑料 |