NBD-PE1200-80TID2FY 该PECVD系统配置高精度全封闭式液体气化装置，为表面薄膜沉积实验提供包含有毒液体在内的气化条件。系统由高稳定性射频电源（200W，13.56MHz）、气体流量控制系统及真空系统组成，采用NBD-101EP集中总线控制技术的诺巴迪操作软件。利用等离子体特性来控制或影响气相反应和材料表面的化学反应过程，并在适当的温度下沉积薄膜。PECVD淀积的薄膜具有优良的电学性能、良好的衬底附着性以及**的台阶覆盖性，正由于这些优点使其在超大规模集成电路、光电器件、MEMS等领域具有广泛的应用。