美泰MP2DE双盘磨抛机，采用先进的微处理器控制系统，可使磨、抛盘均能获得 50-600 转/分钟之间的转速且互不干扰，磨抛盘的旋转方向可任意选择。兼备单盘独立控制和磨抛盘快速更换的功能，双盘、双控，支持两人同时进行研磨和抛光，同时制样，效率更高。其自带水冷却装置，可在研磨时对试样进行冷却，保护金相组织免受破坏。玻璃钢外壳设计结合不锈钢标准件，美观大方，防腐防锈易清洁，操作简单、安全可靠、转速平稳噪音低，被广泛应用于金相试样的粗磨、精磨、粗、精抛光的制样过程，是企业、科研单位以及大专院校实验室的理想制样设备。
功能用途
美泰MP2DE双盘磨抛机，采用先进的微处理器控制系统，可使磨、抛盘均能获得 50-600 转/分钟之间的转速且互不干扰，磨抛盘的旋转方向可任意选择。兼备单盘独立控制和磨抛盘快速更换的功能，双盘、双控，支持两人同时进行研磨和抛光，同时制样，效率更高。其自带水冷却装置，可在研磨时对试样进行冷却，保护金相组织免受破坏。玻璃钢外壳设计结合不锈钢标准件，美观大方，防腐防锈易清洁，操作简单、安全可靠、转速平稳噪音低，被广泛应用于金相试样的粗磨、精磨、粗、精抛光的制样过程，是企业、科研单位以及大专院校实验室的理想制样设备。
工作原理
金相磨抛机简称磨抛机，是一种研磨、抛光设备，它利用各种不同粒度的耐水研磨金相砂纸及抛光材料，对各种金属及其合金试样以及各种岩相试样进行研磨和抛光。
工作条件
l 本机的塑料件在低于-10℃时进行操作，应特别小心，以免损坏；
l 温度10℃-30℃；
l 相对湿度＜85%，周围无腐蚀性气体及导电尘埃。
仪器特点
l 微处理器控制系统，可使磨、抛盘均能获得 50-600 转/分钟之间的转速且相互不干扰；
l 具备单盘独立控制及盘的旋转方向可任意选择和磨抛盘可快速更换的功能；双盘、双控，实现两人同时制样，效率更高；
l 采用玻璃钢外壳和不锈钢标准件，美观大方，提高了防腐、防锈性能且易清洁；
l 两用机型，兼备研磨、抛光两种功能，节约空间成本；
l 自带水冷却装置，可在研磨时对试样进行冷却，防止金相组织破坏；
l 操作简单，转动平稳、结构紧靠，噪音低；
l 可实现金相试样的粗磨、精磨、粗抛光、精抛光，适合多种材料的抛光要求。
操作方法及注意事项
详见说明书
仪器的保养与维护
l 本机的塑料件在低于-10℃时进行操作，应特别小心，以免损坏；
l 当发现机器有异常声音时，应立即停机进行检查；
l 每次操作完毕，应做好设备的清洁保养工作；
l 清洁设备时需拔掉电源；
l 出现故障时切勿擅自分解设备，应请专业人员检修，以免遭电击。
注：不可使用已破损的金相砂纸和抛光织物。否则，研磨或抛光时有试样飞出的危险。
技术参数
| 净重 | 55kg |
| 外形尺寸 | 690×735×310mm |
| 输入功率 | 500W |
| 输入电压 | 单相 AC220V 50Hz |
| 磨抛盘转速 | 磨抛盘转速：50-600r/min（无级变速），150 r/min 、300 r/min（两级定速) |
| 磨抛盘直径 | φ203mm、φ250mm（用户可任选其一） |