型号：WD-TSD100D
威德WD-TSD100D桌上型显影机主要用于将曝光后的光刻胶进行显影处理，以将光刻胶上的图案显现出来，适用于4寸晶圆，仪器本体为镜面不锈钢板,腔体材质为PTFE，耐腐蚀易维护。配备三路管路(显影液、水、气)，同时可选配显影液温度控制精确控制
型号：WD-MPPT-FQ
系统组成多通道MPPT 并行测试系统由MPPT 测试模块组、LED 光源、测试盒，电脑及测试软件组成，通过围绕算法不断修正最大功率点，可实现对太阳能电池最大功率点的实时追踪，同时也可以作IV 测试，完成电池在老化过程中对Vmpp，Impp，
型号：WD-USC10H
产品特点：1、高功率：采用进口高效能超声波换能器，对比同等设备安装更多的换能器，清洗力度更强劲，超声功率密度高，清洁效果更佳2、自动扫频功能，分析物体数据误差大大降低，对清洗物件效率提升，清洗效果更彻底3、脱气功能，抽出液体的空气防止清洗物
型号：HS8
HS8烤胶机采用新颖的数字式加触摸屏面板，精准的控制热板表面温度；坚固耐腐蚀的铝合金面板，表面阳极氧化处理，保障均匀性的同时外观更精美。独立的防过热电路设计，确保实验安全。是微纳加工方向的**选择。产品特点：硬质阳极氧化铝耐腐蚀加热面板7寸
型号：WD-VFE20-P
原理：利用瞬间的减压环境，使溶液迅速挥发，溶质在基底上快速沉积并形成均匀、高质量的薄膜。这种成膜方式具有诸多优势，例如能够精确控制膜的厚度、粗糙度和结晶度，适用于多种材料体系，包括有机小分子、高分子聚合物、金属有机化合物以及生物大分子等。优
型号：WD-UVO300
紫外光清洗机是一种不需要任何的溶剂的干式清洗技术，同时对清洗表面没有损伤。威德专业研发的大功率低压石英汞灯,产生184.9nm和253.7nm波长紫外线，去除石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等大多数无机基材上的有机污染物。紫外光清洗机
型号：WD-ELS4
系统组成多通道MPPT 并行测试系统由MPPT 测试模块组、LED 光源、测试盒，电脑及测试软件组成，通过围绕算法不断修正最大功率点，可实现对太阳能电池最大功率点的实时追踪，同时也可以作IV 测试，完成电池在老化过程中对Vmpp，Impp，
型号：WD-UV0150
一、设备概况威德紫外臭氧清洗机WD-UVO150是一种高效、环保的表面处理设备，适用于去除多种无机基材(如ITO/FTO玻璃、硅片、石英、砷化镓、金属等)表面的有机污染物。设备采用双波段紫外光(185nm 与 254nm)协同作用，结合臭
型号：WD-HS8
设备简介WD-HS8是针对半导体工艺生产中晶圆烘烤而设计的一款产品，采用新颖的数字式加热设计，可以精准的控制表面温度；坚固耐腐蚀的铝合金面板，优异的导热性可以满足多种应用场景；数字式显示器可迅速编码准确控制温度；独立的防过热电路设计，确保实- 型号：WD-VFE30-P
原理：利用瞬间的减压环境，使溶液迅速挥发，溶质在基底上快速沉积并形成均匀、高质量的薄膜。这种成膜方式具有诸多优势，例如能够精确控制膜的厚度、粗糙度和结晶度，适用于多种材料体系，包括有机小分子、高分子聚合物、金属有机化合物以及生物大分子等。优 
型号：WD-PB1104EN
PB-EN 系列内校分析电子天平，采用高精度电磁力平衡传感器，全自动内部校准，使得测量结果精确性更高，响应速度更快，故障更少。● 一键校准，可选自动内校时间● 采用LCD液晶显示屏(白色背光，黑色字体)● 称量快，称量速度比一般天平快几倍，
型号：WD-PB2104E
PB-E 系列外校分析电子天平，采用高精度电磁力平衡传感器，全自动内部校准，使得测量结果精确性更高，响应速度更快，故障更少。● 采用LCD液晶显示屏(白色背光，黑色字体)● 称量快，称量速度比一般天平快几倍，而且可以调速● 操作简单易学，单
型号：WD-PB2104T
功能：★ 全自动内部校准★ 5寸触摸屏★ 一键触发内校/全自动时间触发内校★ 电磁力传感器★ 铸铝外壳/超大空间防风罩★ 全量程去皮/计数/密度/百分比称重★ 单位转换(g/mg/ct/oz)...★ 下挂称重★ 灵敏度/速度可调★ 过载报- 型号：WD-USC30H
产品特点：1、高功率：采用进口高效能超声波换能器，对比同等设备安装更多的换能器，清洗力度更强劲，超声功率密度高，清洁效果更佳2、自动扫频功能，分析物体数据误差大大降低，对清洗物件效率提升，清洗效果更彻底3、脱气功能，抽出液体的空气防止清洗物 
型号：WD-TSC280TD
产品特点：1. 7寸触屏+进口电机和PLC控制，操作方便，质量稳定；2. 整机采用镜面不锈钢外壳，标准半导体洁净室装配，环保且用料扎实、机身重量更重、 电机功率更大、有效保障运行过程中平稳几乎无震动3. 吸盘平整度精细加工平磨，吸盘表面平坦