型号：SGL-1400
产地：上海
1400℃精密真空管式炉采用触摸屏控制系统，一键智能化操作，图文操作界面更便捷；高真空级法兰密封，结合我司标准真空、混气系统，可抽真空通气氛；以优质硅碳棒为加热元件，采用智能化控温系统，可控硅控制，控温精度高；炉膛采用日本技术真空吸附成型的
型号：JVJ-2S
产地：上海
设备概述：主要适用于试验负荷低于2000N的各种金属、非金属及复合材料进行力学性能测试和分析研究。具有应力、应变、荷重、位移四种闭环控制方式，可求出最大力、抗拉强度、弯曲强度、压缩强度、弹性模量、断裂延伸率、屈服强度等参数。根据GB及ISO
型号：1800
产地：上海
设备主要用途：真空热压烧结炉是将真空/气氛、热压成型、高温烧结结合在一起，适用于粉末冶金、功能陶瓷等新材料的高温热成型，如应用于透明陶瓷、工业陶瓷等金属以及由难熔金属组成的合金材料的真空烧结以及陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高温烧结，也可用于粉末
型号：SHZL-1100
产地：上海
1100℃多工位回转炉由炉体、升降组件、炉管旋转组件等组成。烧结过程中炉管可旋转，实验完成后可将炉体可倾斜，取料更加方便、快捷；炉管采用耐高温合金加工而成，可抽真空，通气氛，承受一定的正压；炉体为双层炉壳，采用当前流行的空气隔热技术配合感应
型号：JVJ-1000YS
产地：上海
设备用途：1000kN（100吨）微机控制电液伺服**试验机JVJ-1000YS，是一种通用性较强的产品，可以满足国家关于金属拉伸试验规定中的各项标准试验，可以求取所测材料的抗拉强度、屈服强度、规定非比例延伸强度、弹性模量等性能指标，可以进
型号：MHVD-1000IS
产地：上海
本套系统是由双成像多功能自动转塔数显显微硬度计和硬度测量图像分析软件连接电脑组合而成，通过内置成像系统可在电脑上实时进行对焦和显示硬度压痕图像，只需通过鼠标和键盘就可完成各种检测要求，大大提高工作效率，是进行实验分析的**解决方案。软件的主
型号：SML-1200/20
产地：上海
设备主要用途：真空退火炉是用钼丝或钼片作发热元件的真空电阻炉，应用于软磁材料、硅钢片、电工纯铁、铜合金等金属材料的光亮退火设备主要结构介绍：1、炉体：双层304不锈钢水冷结构，并经精密抛光，有利于缩短抽气时间，且便于清洁；2、炉盖：双层水冷
型号：STGL-1400/40
产地：上海
设备主要用途：真空碳管炉主要应用于合金材料中易挥发元素（如铅、锌等）的真空蒸馏工艺；高价氧化物在真空高温下进行热还原工艺；荧光粉材料以及合金材料在高真空或保护气氛下的热处理等。设备主要结构介绍：1、炉体：双层304不锈钢水冷结构，精密抛光，
型号：JVJ-1300
产地：上海
产品用途：本设备为周期作业式，内部不含碳，避免碳污染，属真空无污染烧结，广泛用于透明陶瓷，半导体材料，光学材料，石英脱羟等，也可用于钨钼制品烧结等。产品特点：本真空钨丝炉具有“三高一低”的优点，三高为：1.高温：温度可以达到2300℃：2.
型号：SXL-1200M
产地：上海
1200℃小型箱式实验电炉以掺钼电阻丝为加热元件，采用智能化控温系统，可控硅控制,控温精度高；炉膛采用日本技术真空吸附成型的优质氧化铝多晶纤维无机材料；双层炉壳间配有风冷系统，有效保证外壳表面温度。主要功能和特点：1、体积小，能耗低，重量轻
型号：MHBD-3000IS
产地：上海
本套系统是由自动转塔数显布氏硬度计和硬度测量图像分析软件连接电脑组合而成，可在电脑上实时进行对焦和显示硬度压痕图像，只需通过鼠标和键盘就可完成各种检测要求，大大提高工作效率，是进行硬度分析的**解决方案。软件的主要功能和特点：1、我司研发的
型号：HVD-1000IS
产地：上海
本套系统是由双成像自动转塔数显显微硬度计和硬度测量图像分析软件连接电脑组合而成，通过内置成像系统可在电脑上实时进行对焦和显示硬度压痕图像，只需通过鼠标和键盘就可完成各种检测要求，大大提高工作效率，是进行实验分析的**解决方案。软件的主要功能
型号：SXL-1700
产地：上海
1700℃精密箱式实验电炉采用独特的触摸屏控制系统，一键智能化操作，图文界面操作更便捷；独特的炉门开锁断电结构，实验操作更安全；抽拉式储物柜，可放置实验所需配件，提高工作效率；智能化程序控温系统，移相触发、可控硅控制，控温精度高；炉膛采用日
型号：HBE-3000IS
产地：上海
本套系统是由电子布氏硬度计和便携布氏测量软件组合而成，通过便携显微镜快速将硬度压痕读取到电脑上，只需通过鼠标和键盘就可完成精确的硬度检测，大大提高工作效率，满足客户对经济实惠和快速测试的要求。软件的主要功能和特点：1、我司研发的图像分析软件
型号：PECVD-1200
产地：上海
在真空压力下，加在电感线圈的射频电场，使反应室气体发生辉光放电，在辉光发电区域产生大量的电子。这些电子在电场的作用下获得充足的能量，其本身温度很高，它与气体分子相碰撞，使气体分子活化。它们吸附在衬底上，并发生化学反应生成介质膜，副产物从衬底