型号:SE-L 产地:广东 SE-L光谱椭偏仪是一款全自动高精度光谱椭偏仪,集众多科技专利技术,采用行业前沿创新技术,配置全自动测量模块。通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析。SE-L光谱椭偏仪广泛应用于半导体薄膜结构:介 |
产地:广东 气体扩散碳布涂层(GDL)表面附有微孔层,具有***的性能,可用于多种操作条件下,可作为有机电化学的催化剂、金属空气电池、燃料电池、电解槽等方面的使用。产品型号气体扩散碳布涂层技术参数1、厚度(0.5psi):454µm2、标准重 |
产地:广东 环行连续金刚石切割线适用于STX-201循环式精密金刚石线切割机,该环形连续金刚石切割线直径径小,金刚石颗粒度均匀。与往复式切割线相比,往复切割线锯换向后会在切割表面上会留下波纹,降低面形精度和切割效率。环形连续金刚石切割线,线锯丝单方向连 |
型号:MSK-2300 产地:广东 MSK-2300液压平衡电动对辊机是进行材料辊轧处理的,主要用于电池材料的实验研究、电池的生产。本机采用斜滑块手动调整轧辊的间隙与平衡,并采用气源控制外置式油压泵油路的开闭,利用双油顶平衡轧辊对材料的压力,双辊同步平稳转动,辊轧出等厚度的材 |
型号:MSK-MR-100A 产地:广东 MSK-MR-100A电动辊轧机专为材料研究人员设计,适用于实验室内电池材料、少量金银等贵金属材料、铜铝等有色材料的手工轧制,轧制厚度可调,且操作简单。本机尤其适用于清洁能源材料锂电池极板的减薄和增大密度。MSK-MR-100A电动辊轧机操 |
型号:MSK-SP-04-LD 产地:广东 MSK-SP-04-LD超声雾化热解涂覆薄膜机,喷胶机可以精确控制溶液化学计量比、雾粒的喷出速度和雾粒大小等参数,采用步进电机和微处理器来控制容积泵来精确输送溶剂。一个超声波雾化器可以制备厚度较薄的微纳米涂层,并且由一步进电机控制可在X轴和 |
型号:593 产地:广东 593℃特殊涂层纤维性耐火材料Seal-4030在450℉下热固化需1h和足够的通风,超过300℉开始脱气并在750℉停止。如果温度低于750℉ ,需要额外的30min高温度环境。产品型号593℃特殊涂层纤维性耐火材料Seal-4030技术 |
型号:STX-600 产地:广东 STX-603A金刚石线切割机是经过CE认证的切割设备。主要用于材料分析样品的精密切割,例如陶瓷、晶体、玻璃、金属、岩石、热电材料、红外光学材料、复合材料以及生物医学材料等。本机尤其适合于进行超薄片的精密切割,薄片厚度可以达到0.2mm。S |
型号:RTP-1000-LV3F 产地:广东 带3路浮子混气RTP管式炉RTP-1000-LV3F是专为半导体基片、太阳能电池及其它样品(尺寸可达3")的退火而设计,配有3路流量计和机械泵。本机采用 9KW的红外灯进行加热,最快升温速度可达 100℃/s,配有RS485 接口,可以通过 |
型号:DFN-500 产地:广东 产品简介:精密氮气发生器DFN-500是一种小型高纯度气体发生器,它产生气体的速率可达到500ml/min,且气体纯度>99.99%,是化学和材料实验室的理想设备。产品型号精密氮气发生器DFN-500主要特点1、无需液体和化学物质,直接采用 |
型号:MSK-FT01 产地:广东 MSK-FT01浆料过滤装置是专为实验室而设计的一款专用过滤器,用以滤去浆料中不小于124µm粒径的各种硬质颗粒。本机分别配有过滤正、负极两种颗粒的过滤网,而接料罐采用SUS304不锈钢制成,防腐性能较好,为其配置的较大过滤面积的 |
型号:300 产地:广东 300℃鼓风干燥箱采用先进的激光、数控加工设备生产的产品;供工矿企业、化验室、各大高校、科研院所等作干燥、烘焙熔蜡、灭菌等使用。产品型号300℃电热鼓风干燥箱主要特点1、箱体内均采用镜面不锈钢氩弧焊制作而成,箱体外采用优质钢板,造型美观、新 |
型号:MSK-2300A 产地:广东 MSK-2300A液压平衡电动对辊机是一款高精度轧平片专用设备,广泛应用于电池极片的压实轧制。采用美国原装NPAK液压系统及PLC压力控制系统、收放卷系统。在锂电极片轧制中,200µm可轧到80µm,厚度均匀度± |
型号:MSK-AFA-IV 产地:广东 MSK-AFA-IV小型涂布机采用电气控制和机械的有机结合,可大量节省原料,改进工艺技术,方便在不同的基底上涂覆出质量优良布膜,减小以及消除了由于涂布速度、压力不同等人为因素而造成的涂布后样品表面薄膜厚度的误差,涂覆不通厚度的薄膜需选用不同 |
型号:GSL-CKJS-560-B2 产地:广东 高真空溅射可用于金属、半导体、绝缘体等多种新型薄膜材料的制备,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,可广泛用于大专、科研院所的薄膜材料研究、制备。产品型号GSL-CKJS-560-B2磁控溅射安装条件本设备要求在海拔1000 |