型号：PTL-6P
产地：广东
产品介绍：PTL-6P六工位提拉机一次可提拉一个样件，通过程序控制使样件逆时针旋转，在装料烧杯中浸没一定时间后提拉出来进行干燥，浸没时间和干燥时间可以通过程序进行设置。PTL-6P六工位提拉机的六个装料烧杯中可以装同一种薄膜材料，也可以分装
产地：广东
刚玉（氧化铝）研磨微粉具有硬度大，切削力强，耐磨损等特点，因此被广泛应用于各类材料的研磨抛光当中，主要用于非金属材料的研磨如晶体、陶瓷、玻璃、宝石等，根据研磨要求的不同选用的碳化硅颗粒度大小有所不同。我公司的刚玉（氧化铝）研磨微粉品质稳定，
型号：SYJ-30QY
产地：广东
SYJ-30QY圆环打孔取样机是专门用于固体材料钻取圆柱或圆环状样品时使用，可采用手动方式取样，也可采用控制器自动控制进给和退出的方式对样品进行取样，取样精度可控制在一定范围之内。SYJ-30QY圆环打孔取样机可取样品的种类范围广，例如可以
型号：HPM-1.6
产地：广东
HPM-1.6恒力手动压力机主要用于材料压制，在压制过程中对物体施加相等的压力。产品型号HPM-1.6恒力手动压力机主要特点体积小，重量轻，易操作，适合于大专院校、研究所使用。技术参数1、压力：1600N2、行程：0-40mm3、台面尺寸：
型号：150mm-Se-KTQ-150D
产地：广东
产品详细介绍：Se-KTQ-150D是一款双刮刀的可调制膜器，由于有两个刮刀所以涂覆效果会更加均匀。操作者可通过千分尺来调节刮刀与所涂覆平面之间的间隙，此工具特别适合实验室制作电池电极，陶瓷膜前期的生瓷带及各种薄膜。产品型号双刮刀微米级可调
型号：SE-VM
产地：广东
SE-VM 是一款高精度快速测量光谱椭偏仪。可通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量，快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析，适用于薄膜材料的快速测量表征。支持多角度，微光斑，可视化调平系统等高兼容性灵活配置，多功能模块定制化设计。高精
型号：MSK-SFM-500D
产地：广东
产品简介：MSK-SFM-500D高剪切分散乳化机是一款直立式安装的高剪切乳化设备，具有转速记忆功能，可预先设定转速，随时可暂停。三种不同孔型定子头可适用于各种不同粘度的浆料，可在各种大、小反应釜、普通容器及真空容器上实现物料的分散、乳化、
型号：ZK
产地：广东
ZK型微波真空烧结炉是标准化多功能微波高温真空实验工作站，适用于各种气氛条件下的合成、焙烧、热处理、烧结等工艺研究。尤能实现微波真空合成或烧结，并可对易受气氛影响的实验提供更为精细的气氛控制。产品型号ZK型微波真空烧结炉主要特点1、采用工业
型号：UNIPOL-1200M
产地：广东
UNIPOL-1200M自动压力研磨抛光机主要用于材料研究领域，广泛使用于各大专院校、科研院所实验室的金属、陶瓷、玻璃、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、岩样、矿样、复合材料、有机高分子材料等材料样品的自动研磨抛光，尤其适用于
型号：GSL-ZDDZS-500
产地：广东
用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作及清理方便的优点,还具有蒸镀速率快，电子束定位准确能量密度高，可以避免坩埚材
型号：GSL-1100X-MGI-16 1100
产地：广东
GSL-1100X-MGI-16是一款16通道管式炉，针对于高通量样品烧结，退火和淬火使用，其最高温度可达1100℃。每个加热模块都由独立的温控系统控制，每个炉管都是采用真空法兰密封可对样品在真空或气氛保护环境下进行热处理。产品型号GSL-
型号：THR-150D
产地：广东
THR-150D电动洛氏硬度计采用自动加卸试验力机构，试验力变换由旋转变荷手轮而获得，所以操作简便迅速，且除度盘对零外，无其他人为操作误差，具有很高的灵敏度与稳定性，广泛适用于工厂和计量部门。产品型号THR-150D电动洛氏硬度计主要特点1
型号：KJ-YY-1
产地：广东
KJ-YY-1压样机是为X射线荧光光谱分析仪及红外光谱分析仪提供试样片的配套设备。工作过程中自动进行加压、保压、卸压，在量程内压力、恒压时间和行程均连续可调，广泛应用于冶金、药检、有色金属、商检、水泥、建材、煤炭、地矿、科研等领域。产品型号
型号：HP-500V
产地：广东
HP-500V真空加热平台是专为材料加工及材料研究实验室而开发，采用黄铜材质铸造，升温速度快，控温精准，温度高低可调，使用完毕后散热速度快，最高温度可达500℃，可满足热解喷涂的实验使用需要，也可适用于燃料电池的基板涂敷。HP-500V真空
产地：广东
产品型号球形真空腔体腔体材质优质304或316不锈钢；主要用途适用于自己组装或改造高真空设备，如：小型非标真空设备或过渡腔；技术指标1.漏率:≤10-8Pa·L/S；规格尺寸球型真空室φ450（mm）；1.上面接口可根据