型号：TF1200-60III-HV-T7
品牌：Micro-X
产地：上海
设备名称高真空管式炉(开启式、智能型)型号TF1200-60III-HV-T7基本参数控制**7英寸液晶触摸屏北京昆仑通态可预设多达百条工艺程序，并可编辑不同中英文工艺名称，需要时直接调用，互不干扰，无需重复修改参数。电源电压AC220V,
品牌：Micro-X
产地：上海
设备型号加热规格管材及规格充气正压×高温度使用温度功率电压加热元件测温元件TF1200-R400石英管60*100*1200≤0.02MPa1200℃1100℃3KW单相220V电阻丝K型TF1400-R300刚玉管60*1200≤0.02
型号：VRSF1800-422
品牌：Micro-X
产地：上海
VRSF真空电阻炉型号VRSF1800-422用途本设备是一款在真空条件下烧结样品的上等真空炉，也可预抽真空通保护气烧结，性能优于传统箱式气氛炉和箱式高温炉，外观美观，使用方便，占地小，经济实用。参数整机功率21Kw电源电压380V加热区(
品牌：Micro-X
产地：上海
设备用途本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、气氛还原烧结、CVD实验、真空退火﹑熔化﹑物质成分测量分析而研制的专用理想设备。应用领域半导体
型号：TF1200-30-HP
品牌：Micro-X
产地：上海
产品用途：主要用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、 物质成分测量等场合。 主要功能和特点： 1、炉膛采用进口氧化铝多晶纤维材料，保温性能好，耐用，高
型号：LF1800-555
品牌：Micro-X
产地：上海
设备名称升降式高温炉型号LF1800-555基本参数电源电压AC380V,50/60Hz外形尺寸(宽*深×高)1600*1060*2300mm设备重量900Kg加热系统加热功率36Kw炉膛尺寸(宽*深×高)500*500*500mm恒温尺寸
型号：BF1200-433
品牌：Micro-X
产地：上海
设备名称箱式高温烧结炉型号BF1200-433基本参数电源电压AC380V,50/60Hz外形尺寸(宽*深×高)1000*880*1300mm设备重量450Kg加热系统加热功率9Kw炉膛尺寸(宽*深×高)300*400*300mm恒温空间(
品牌：Micro-X
产地：上海
设备型号加热规格管材及规格充气正压×高温度使用温度功率电压加热元件测温元件TF1200-60-SL400石英管60*1200≤0.02MPa1200℃1100℃3KW单相220V电阻丝K型TF1200-80-SL400石英管80*1200≤
型号：MXQ600-8/4/4-316
品牌：Micro-X
产地：上海
本设备是专为贵金属精炼研发的行业炉型。是贵金属加氢还原工艺的*后一道工序，对加热区域环境洁净度要求非常高，不允许有任何杂质污染原料。由于物料含有少量HCL，故本设备内胆选用316L耐腐蚀不锈钢材料，也可选用进口材料(价格高，周期长)。工艺流
型号：TF1200-150-SL-RTP
品牌：Micro-X
产地：上海
开启式RTP快速升降温退火炉，是由我公司自主研发的高性能热处理设备。本产品采用国际先进制造工艺，造型新颖结构合理，炉体上下两半设计，可自由打开闭合，安全可靠，炉管外径150mm，炉膛采用高纯氧化铝纤维材料真空吸附成型，表面涂有高反射率高温保
型号：TF1700-60-HV-T7
品牌：Micro-X
产地：上海
设备名称高真空管式炉(封闭式、智能型)型号TF1700-60-HV-T7基本参数控制**7英寸液晶触摸屏北京昆仑通态可预设多达百条工艺程序，并可编辑不同中英文工艺名称，需要时直接调用，互不干扰，无需重复修改参数。电源电压AC220V,50/
型号：LF1700-555
品牌：Micro-X
产地：上海
设备名称升降式高温炉型号LF1700-555基本参数电源电压AC380V,50/60Hz外形尺寸(宽*深×高)1600*1060*2300mm设备重量900Kg加热系统加热功率30Kw炉膛尺寸(宽*深×高)500*500*500mm恒温尺寸
型号：TF1200-60-HV-T7
品牌：Micro-X
产地：上海
设备名称高真空管式炉(开启式、智能型)型号TF1200-60-HV-T7基本参数控制**7英寸液晶触摸屏北京昆仑通态可预设多达百条工艺程序，并可编辑不同中英文工艺名称，需要时直接调用，互不干扰，无需重复修改参数。电源电压AC220V,50/
型号：TF14/17/14-60III
品牌：Micro-X
产地：上海
设备用途本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、气氛还原烧结、CVD实验、真空退火﹑熔化﹑物质成分测量分析而研制的专用理想设备。应用领域半导体
型号：MXG1200-60-PECVD
品牌：Micro-X
产地：上海
MXG1200-PECVD型等离子增强化学气相沉积系统 技术参数 设备简介 MXG1200-PECVD型等离子增强化学气相沉积系统是利用辉光放电产生的等离子体中的电子动能去激活气相的化学反应。该系统由MXG1200系列真空管式炉、石英反应腔