品牌:Micro-X 产地:上海 设备型号加热规格管材及规格充气正压×高温度使用温度功率电压加热元件测温元件TF1200-R400石英管60*100*1200≤0.02MPa1200℃1100℃3KW单相220V电阻丝K型TF1400-R300刚玉管60*1200≤0.02 |
型号:TF1200-150-SL-RTP 品牌:Micro-X 产地:上海 开启式RTP快速升降温退火炉,是由我公司自主研发的高性能热处理设备。本产品采用国际先进制造工艺,造型新颖结构合理,炉体上下两半设计,可自由打开闭合,安全可靠,炉管外径150mm,炉膛采用高纯氧化铝纤维材料真空吸附成型,表面涂有高反射率高温保 |
型号:VRSF1400-422 品牌:Micro-X 产地:上海 VRSF真空电阻炉型号VRSF1400-422用途本设备是一款在真空条件下烧结样品的理想真空炉,也可预抽真空通保护气烧结,性能优于传统箱式气氛炉和箱式高温炉,外观美观,使用方便,占地小,经济实用。参数整机功率11Kw电源电压380V加热区( |
型号:TF14/17/14-60III 品牌:Micro-X 产地:上海 设备用途本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属,非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、气氛还原烧结、CVD实验、真空退火﹑熔化﹑物质成分测量分析而研制的专用理想设备。应用领域半导体 |
型号:VF1300-422 品牌:Micro-X 产地:上海 型号VF1300-422用途本设备主要应用于金属材料高真空热处理。主要应用行业与工艺:3D打印金属工件与合金材料的高真空热处理;硬质合金刀具高真空钎焊;医用X射线管高真空除气。主要参数炉型结构卧式,单室,炉体炉门采用双层水冷,前开门结构。由 |
型号:BF1700-433 品牌:Micro-X 产地:上海 设备名称箱式高温烧结炉型号BF1700-433基本参数电源电压AC380V,50/60Hz外形尺寸(宽*深×高)1000*880*1300mm设备重量620Kg加热系统加热功率12Kw炉膛尺寸(宽*深×高)300*400*300mm恒温尺寸 |
型号:TF1700-80II 品牌:Micro-X 产地:上海 设备名称真空管式炉(封闭式)型号TF1700-80II基本参数电源电压AC220V,50/60Hz外形尺寸1200*640*1580mm设备重量175Kg加热系统加热功率8Kw加热区300+300mm恒温区120mm(±1.5℃)加热区数双 |
型号:TF1200-60-HP 品牌:Micro-X 产地:上海 产品用途:主要用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、 物质成分测量等场合。 主要功能和特点: 1、炉膛采用进口氧化铝多晶纤维材料,保温性能好,耐用,高 |
型号:VRSF1200-644 品牌:Micro-X 产地:上海 VRSF真空电阻炉型号VRSF1200-644用途本设备是一款在真空条件下烧结样品的理想真空炉,也可预抽真空通保护气烧结,性能优于传统箱式气氛炉和箱式高温炉,外观美观,使用方便,占地小,经济实用。参数整机功率33Kw电源电压380V加热区( |
型号:TF1750-60-HV-T7 品牌:Micro-X 产地:上海 设备名称高真空管式炉(封闭式、智能型)型号TF1750-60-HV-T7基本参数控制**7英寸液晶触摸屏北京昆仑通态可预设多达百条工艺程序,并可编辑不同中英文工艺名称,需要时直接调用,互不干扰,无需重复修改参数。电源电压AC220V,50/ |
型号:BF1200-433 品牌:Micro-X 产地:上海 设备名称箱式高温烧结炉型号BF1200-433基本参数电源电压AC380V,50/60Hz外形尺寸(宽*深×高)1000*880*1300mm设备重量450Kg加热系统加热功率9Kw炉膛尺寸(宽*深×高)300*400*300mm恒温空间( |
型号:TF1200-60-HV-T7 品牌:Micro-X 产地:上海 设备名称高真空管式炉(开启式、智能型)型号TF1200-60-HV-T7基本参数控制**7英寸液晶触摸屏北京昆仑通态可预设多达百条工艺程序,并可编辑不同中英文工艺名称,需要时直接调用,互不干扰,无需重复修改参数。电源电压AC220V,50/ |
型号:TF1400-80-HV-T7 品牌:Micro-X 产地:上海 设备名称高真空管式炉(封闭式、智能型)型号TF1400-80-HV-T7基本参数控制**7英寸液晶触摸屏北京昆仑通态可预设多达百条工艺程序,并可编辑不同中英文工艺名称,需要时直接调用,互不干扰,无需重复修改参数。电源电压AC220V,50/ |
品牌:Micro-X 产地:上海 设备用途本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属,非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、气氛还原烧结、CVD实验、真空退火﹑熔化﹑物质成分测量分析而研制的专用理想设备。应用领域半导体 |
型号:TF1500-60II 品牌:Micro-X 产地:上海 MXG1500-60II是一款双温区开启式管式炉,两个温区分别用两个独立的温控系统控制,每个温区都可以设置30段升降温程序,并带有断偶和过热保护,控温精度高达+/- 1℃,仪器极限温度可以达到1500℃。此高温管式炉适合于在气氛保护或真空 |