引言：

等离子表面处理技术被运用在IC器件领域，它能改善并且去除基板上污渍。为了成功的使用这项技术，必须完成物理和化学等离子的反应。这需要在等离子领域里离子和电子的组合。

①2.45Ghz微波频率

2.45 GHz，在离子室的外壳上伴随着射频，结果导致耦合复杂性。因此，等离子清洗必须在一个可以维持不变因素，抗阻好的区域处理。这种设计结果导致在离子室有不相同的等离子区域。

在微波清洗程中，通常有3种处理方法：

第1种方法，设计在等离子区域有可以旋转的部分（转盘设计），在不相同的环境里均匀的旋转。尽管这种方法可以有效的使用，但是它大大降低了清洗能力。

第2种方法，加速活跃核素的运动，这种方法的实现必须由大量的泵去实现。但是这种方法不仅增加了花费，而且还减少了活跃核素的停留时间，这样影响了清洗结果，如金丝焊接，减少氧化和倒装晶片应用。

第3种方法，增加顺流微波处理的效力和使用氧气，因为它们的寿命长。这种方法可以有效使用，可是许多环氧树脂和金属线框架有可能被氧化，所以这种方法也被排除掉了。

②40-100千赫/低频

正如频率变动范围变小波长也随之增加，在40千赫时，其波长为13.56兆赫时339倍。这个结果引起在离子中40千赫的与那些以更高频率基础的相较有更高的能量水平。这会引起两种结果，第一种结果是现场电子的温度较高，这样会使等离子体的温度增加，直接影响芯片的温度。第二种结果是现场的高能量离子它能够有益于溅射，但是在很多应用中是有害的。而且，在这个频率增加了阻抗，而且低频系统没有典型的可变阻抗匹配设计。因此，在这个频率由于增大的阻抗而造成很大能量的损失。这会导致离子密度的显著减少，从而使得能量提供效率低于13.56MHz频率。然而在以40KHz频率系统的长波和增强的离子能量的优点由于采用了次等离子设计而丧失掉。

③13.56MHz系统

随着对其他RF范围的了解，你就可以对13.56MHz系统一个很好的评价。此频率 优势在于不需要匹配复杂的阻抗就可以达到2.45GHz的能量。不像40KHz,设计优良的13.56MHz系统利用可变电容匹配网。网状结构在等离子腔体的阻抗通过一个简单可变的电容提供功率相当于50欧姆的，他能够提供比40KHz更大的有效功率。随着离子的密度优化，系统能够很好的控制离子能量。以及随着优化的离子密度和离子能量，更大的离子腔得到很大的发展，包括主离子和次离子系统。

结论：

尽管每种频率都有自己的优点，13.56MHz频率能够提供很大的选择范围，因为13.56MHz能够提供等离子道具所要得到的平衡。有人肯定要问为什么其他的仍在采用具有代表性的，低频率RF等离子系统（40khz）制造成本比较低，由于他们不需要开发复杂的耦合或可变的匹配网系统。他们在需要高能量的地方也能够应用，顺流微波系统不需要很大的技术开发。他们可以利用普通的磁电管系统结合真空腔，考虑到IC应用的要求，13.56MHz系统能具有很大的柔性和非常好的效果。

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