型号：Research-cm-zkl
品牌：超迈智能
产地：南充
2300℃高真空高温炉，最高可定制2800℃高温炉，主要用于结构陶瓷、复合材料、碳化钨等材料真空高温烧结、退火、回火工艺，也可通入保护气氛进行烧结，可用于科学实验和中小批量生产。 本设备可选用石墨加热器、钨钼加热器，底部烧结，顶部出料；
型号：research-cm-dmj-rezhenfa
品牌：超迈智能
产地：南充
多靶复合磁控溅射镀膜机，可满足合金膜、单层膜、多层膜、导电膜、非导电膜和反应溅射的需要，具有极高的实用性和通用性（三靶、垂直与共溅射合一、在线清洗基片等），能够提供高水平功能薄膜研制，特别适合于半导体、新能源、磁性材料、储氢材料、二维材
型号：surpass
品牌：超迈智能
产地：南充
本设备主要用于半导体刻蚀，能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能，使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀，并形成可从衬底上移除的挥发性副产品，通过真空系统排出，特别适合刻蚀熔融石英、硅、光刻胶、聚酷亚胺( PI) 薄膜、金属等材料。本设备
型号：Research
品牌：超迈智能
产地：南充
“近距红外蒸发真空镀膜机”正式推向市场，探索薄膜太阳能电池，如CdTe、硫化物和钙钛矿结构太阳能电池的重要手段，也用于有机柔性薄膜制备，为公司专利产品“一种近距红外热蒸发真空镀膜机”，专利号：CN201920208976.6，接受桌面式和一
型号：IBE350
品牌：超迈智能
产地：南充
刻蚀设备在半导体行业中占据着至关重要的地位，可以实现纳米级的精密刻蚀。对复杂微结构的器件加工，微电子器件的制造提供重要支持，在芯片领域发挥着关键作用。设备尺寸：1200*1500*1800mm。极限真空：优于≤8.0×10-5Pa。样品尺寸
型号：Research-cm-dmj5
品牌：超迈智能
该设备用于纳米级单层或多层膜、类金刚石薄膜、金属膜、导电膜、半导体膜和非导电膜等功能薄膜的制备，可实现共溅射，直流、射频兼容，特别适于科研院所和企业进行功能薄膜研发、教学和新产品开发，同时可在微米级粉末或颗粒上沉积薄膜进而达到表面改性的功能
型号：cm-dmj-lz
品牌：超迈智能
产地：cd
该设备可满足合金膜、单层膜、多层膜、导电膜、非导电膜和反应溅射的需要，特别适合于半导体、新能源、磁性材料、储氢材料、二维材料、超硬薄膜、固体润滑薄膜、 自洁净薄膜、等领域前沿研究，同时具备磁控溅射、离子注入和磁过滤电弧沉积功能，能够开展多方
型号：Research-cm-dmj-2
品牌：超迈智能
该设备为电阻、电子束或电阻电子束复合镀膜系统，同时兼容IBE等离子刻蚀和在线辅助镀膜，过流部件均采用SUS304制造，真空系统后置，标准配置分子泵系统，标配工业级人机界面和西门子PLC系统，手动和自动模式自由切换，能够满足工业客户小批量
型号：Research-cm-dmj
品牌：超迈智能
该设备可选配电阻、电子束或电阻电子束复合镀膜系统，过流部件均采用SUS304制造，真空系统后置，标准配置分子泵系统，标配工业级人机界面和西门子PLC系统，手动和自动模式自由切换，能够满足工业客户小批量生产和科研院所客户科研实验的需求。该系列