型号:CY-CMF-600×300B-S 成越CY-CMF-600×300B-S大尺寸自动流延装置具备出色的一致性和可靠性,其底部加热设计使温度均匀达到100℃,并通过真空吸附固定环氧树脂,防止有效涂布过程中产生褶皱。设备内置精密可调式刮膜器和恒速移动推杆,保证浆料均匀分布,特别适 |
型号:CY-CMF-1100×350B-S 成越CY-CMF-1100×350B-S大型真空加热焊接机专为制作太阳能电池型电极材料而设计,支持21700等格式,配备可加热的真空吸盘,温度可达100℃,确保基片在喷涂过程中的平整和均匀。设备采用微米级喷涂机,结合独特的驱动系统,可在各种 |
型号:CY-CMF-800×250B-S 成越CY-CMF-800×250B-S大型带式流延印刷机专为生产长厚膜及周边涂装而设计,配备真空吸盘和无真空泵系统,可稳定固定油基片并防止油污染污染其独特的自动推进装置和微米级可调涂膜器可在800mm×250mm范围内生产光滑的涂层,是深度 |
型号:CY-CMF-1000×350B-S 成越CY-CMF-1000×350B-S 1000mm真空加热型焊接机是一款大型高效带式浇铸焊接设备,专为长厚膜生产设计。其配备了可加热至100℃的真空吸盘和微米级涂布机,保证了涂层的光滑和均匀。设备具有350mm宽和1000mm长的涂布幅 |
型号:CY-SPC8-B 成越CY-SPC8-B匀胶机采用铝合金框架和PP工程材料腔体,配备精密电机可实现0-10000rpm转速范围,加速度100-5000rpm/s。仪器具有7寸LCD触控屏界面,可预设5条5段匀胶曲线并存储。适用于直径≤8英寸基片,支持手动滴胶 |
型号:CY-SPC4-PMMA 成越CY-SPC4-PMMA匀胶机采用精密电机驱动,转速范围0-10000rpm,加速度100-5000rpm/s,配备液晶屏实现程控操作。仪器具备5条可存储匀胶曲线,适配直径≤100mm基片,透明亚克力腔体便于观察。集成φ6mm快拧抽气接 |
型号:CY-SPC4-SS-JH 成越 CY-SPC4-SS-JH 净化旋涂仪专为半导体硅片涂覆设计,具有两个独立工位的匀胶台,可单独或同时工作。设备具备高达9999rpm的旋转速度和加热功能,确保胶体涂层的均匀性和工艺控制。采用亚克力腔体,提供了优良的清洁性和透明度,配备 |
型号:CY-CMF-400×220B-S-UV 成越CY-CMF-400×220B-S-UV小型加热型线棒缠绕机集成顶部加热管和中继汞灯固化功能,适用于高温涂膜研究,如陶瓷、晶体、电池材料和纳米薄膜。其涂膜速度可在0至100mm/s内调节并实时显示,配备空白铝盘即可快速放置和搬运基片,并 |
型号:CY-SPC8-SS CY-SPC8-SS 加热型匀胶机是一款高性能涂胶设备,适用于硅片、晶体等多种基片的薄膜涂覆。它采用聚四氟乙烯工作腔体,耐腐蚀性强,配备真空数字传感器,可实时监测真空度,确保涂胶过程稳定可靠。设备转速范围010000rpm,加速度10050 |
型号:CY-SPC8-F 成越 CY-SPC8-F 医胶机采用小型化设计,铝合金结构与聚四氟腔体相结合,确保外观美观和坚固性。配备高性能精密电机,转速可达10000转/分,保证成膜均匀。触控屏控制系统可预设匀胶曲线,操作简便,特别适用于实验室。此匀胶机适用于液态或胶 |
型号:CY-CMF-810×255B-S 成越CY-CMF-810×255B-S加热型薄膜箔机专为在多种基材上制作高温聚合物导电膜或导电陶瓷膜而设计,其加热真空床温度可达120℃,共计通风系统,确保操作安全和环境清洁。设备采用真空吸附技术,结合千分尺可调涂膜器,避免基片起皱,提高劳 |
型号:CY-SP-04-HT 成越CY-SP-04-HT高通量超声波热解喷涂机是一种智能设备,用于制备钙钛矿薄膜和电池电极。它携带三种溶液,可编程涂覆直径最大18mm,基板多达36个位置。涂层室可抽真空,允许在受控气氛下进行喷雾裂解。设备包括两个喷嘴、四个注射泵,标准注 |
型号:CY-CMF-550×240B-S 成越CY-CMF-550×240B-S锂离子电池缝隙重叠型印刷机具有高精度的印刷能力,适用于连续和间歇印刷需求。其缝隙重叠型印刷方式确保了涂布层的一致性和一致性,配备了基材张力控制和纠偏装置,以保持走带稳定。设备采用热风式床垫系统,上下双面 |
型号:CY-SPC8-PMMA-RDB 成越 CY-SPC8-PMMA-RDB 亚克力8英寸匀胶机结合了铝合金结构和透明亚克力腔体,确保了坚固耐用且易于观察的设计。配备先进的精密电机,支持高达10000rpm的转速,保证薄膜的均匀性。7寸高清触控屏使得匀胶曲线的预设和存储变得简单 |
型号:CY-CMF-200×300B-S-UV 成越CY-CMF-200×300B-S-UV小型加热喷涂机专为各种高温涂膜研究和设计,适用于陶瓷薄膜、晶体薄膜、电池材料薄膜及特殊纳米薄膜的制备。设备配有顶部极低和底部加热功能,最高加热温度达到200°C,涂膜速度和行程护士精确调节。真空铝 |